光刻机是製造晶片的核心装备，而光刻机市场几乎被荷兰的 ASML 、日本的 Nikon 和 Canon 这3家厂所瓜分，其中身为后起之秀的 ASML 的光刻机技术最为先进。据报导称， ASML 光刻机市佔率高达 89% ，其余两家的份额分别是 8%和3% ，加起来仅有11% ，而目前最先进的在 EUV 光刻机市场中， ASML 更是独家。而近日有消息称 ASML 有望向中国出口光刻机。

一台光刻机由上万个部件组成，而一台光刻机的售价可高至过亿美元。目前的光刻机主要分为两种 DUV 光刻机和 EUV 光刻机，其中 EUV 光刻机的技术最为先进，是突破 5nm 晶片製程节点重要工具。

10月14日， ASML CFO Roger Dassen 对媒体表示， ASML 可以从荷兰向中国出口 DUV (深紫外)光刻机，无需美国许可。而作为更先进的 EUV (极紫外)光刻机无法出口中国。当中原因是相关技术或零件是从美国出口的，需要美国的批准。

对于此次 DUV 光刻机有望出口中国有这2大原因：

1 、中国市场需求巨大，据海关总署数据显示，今年1-8月，中国累计进口了3334.6亿美元的集成电路，同比大增22.5% 。如此庞大的市场能为公司带来更多的收益。

2 、中国目前加大了对半导体行业的投入，光刻机工艺已经突破到了 28nm 工艺了，再中国市场进行封锁和限制没有多大意义。

不过中国亦不要太开心，明眼人都知道 DUV 光刻机在这年代中是生产不出 14nm 或以上的晶片(準确应该说液浸式 DUV 经过多重曝光后极限是可以生产出 7nm 晶片，但良率低而且不稳定)，要突破 14nm 就必须 EUV 光刻机，如果 EUV 光刻机不给予进口等同只可以生产 14nm 或以下的晶片。另外在生产晶片时所需要的物料仍受美国技术限制，没有这些物料供应亦生产不出 40nm 以上的晶片，所以中国最强的晶片生产厂中芯国际亦表示过如果完全不使用美国技术，他们现时只能生产到 40nm 水平。