近期，韩国的三星科技公司计划将在明年开始大量生产两纳米工艺的芯片，并打算在韩国投资500亿韩元，在未来建造一座大型的半导体工厂，主要还是用来开拓和发展两纳米制造的工艺。根据有关信息可知，两纳米工艺是目前下一代半导体制成的关键性突破，对后续的技术革新和前景突破会带来很多的正面帮助和改进，为未来的科技发展和革新带来更多的突破。
其中这种两纳米工艺的半导体制程可以有效的提供更高的性能和较低的功耗，不过作为三星的主要竞争对手，台积电曾披露出两纳米芯片的早期细节。目前台积电主要采用n2的平台引进gaafet纳米片晶体管架构和背部供电技术，利用这种技术工艺可以将两纳米制成的技术锤炼的更加炉火纯青，整体的功耗在相同的情况下会比三纳米的工艺速度更快，并且相同速度等级下功耗的降低幅度会更大。
目前的三星或者台积电等都是具备着2025年量产两纳米功力的伟大实力，虽然两者在制程工艺方面拥有着完全不同的技术和革新，但是整体的优秀品质和客户的认可度还是很高的。所以在当前的这场两纳米的战争当中，无论是三星还是台积电都很难成为绝对的赢家，更多的是看这两者公司对于两纳米制程工艺芯片的投入了。
